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晶元半導體台階測高(gāo)顯微鏡介紹
VMM測量顯微鏡系列是觀察、測量和(hé)處理(lǐ)系統化(huà)的(de)顯微鏡陣容。
特點
● 視場(chǎng)寬闊，可(kě)得(de)清晰無閃爍正像
● 高(gāo)精度測量，同時(shí)具有大(dà)測量範圍和(hé)高(gāo)精度，适用(yòng)于各種測量
● 可(kě)選用(yòng)高(gāo)NA物(wù)鏡，滿足長(cháng)工作距離的(de)測量要求
● 照(zhào)明(míng)裝置（反射/透射）可(kě)選用(yòng)高(gāo)亮度LED的(de)照(zhào)明(míng)或鹵素照(zhào)明(míng)
● 利用(yòng)可(kě)變孔徑光(guāng)闌進行無衍射觀察測量
● 各類尺寸的(de)标準工作台
● 快(kuài)速釋放裝置便于測量工件大(dà)或測量工件數量多(duō)的(de)快(kuài)速移動工作台
● 高(gāo)位目鏡觀察
● 便捷CCD圖像成像，可(kě)選配多(duō)種CCD數碼相機
觀察成像
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偏光(guāng)觀察
觀察過濾後隻有一個(gè)方向振動的(de)光(guāng)。适于觀察具有特殊光(guāng)學特性的(de)材料，如礦石和(hé)液晶。
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微分(fēn)幹涉對(duì)比觀察
在檢測金屬、液晶和(hé)半導體表面的(de)微小劃痕和(hé)階差時(shí)很有效。
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暗視場(chǎng)觀察
擋住直射到物(wù)體上的(de)光(guāng)，隻觀察散射光(guāng)，通(tōng)過高(gāo)對(duì)比度能觀察到在亮視場(chǎng)看不到的(de)劃痕和(hé)粉末。
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亮視場(chǎng)觀察
最普通(tōng)的(de)觀察方式，直接觀察從工件表面反射的(de)光(guāng)。
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新功能增強Z軸測量精度
● 輔助對(duì)焦（FA）
新近研發的(de)分(fēn)光(guāng)棱鏡輔助對(duì)焦（FA）提供更銳利的(de)圖案，可(kě)在Z軸測量期間提供精确對(duì)焦。由于不同物(wù)鏡焦深差異導緻的(de)測量誤差被降到最低。
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對(duì)焦
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前端對(duì)焦
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後端對(duì)焦
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規格
● 無限遠(yuǎn)系統，管鏡200mm
● 傾斜角度30°，瞳孔距離55-75mm，正像
● 高(gāo)眼點，大(dà)視場(chǎng)WF10/22
● 鼻輪螺紋M26X0.706
● Z軸的(de)長(cháng)度180mm，微動精度0.002mm，測量精度（at20℃），XY-軸的(de)（2.5+0.02L）um，L=測量長(cháng)度（mm）在沒有放物(wù)體分(fēn)辨率爲0.001mm
● 12V50W反射鹵素燈
● 3W高(gāo)亮度LED光(guāng)源
● 可(kě)配置輔助調焦裝置（FA）
技術參數
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型号
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VMM-8Ⅰ型
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VMM-8Ⅱ型
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VMM-8 Ⅲ型
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VMM-8
Ⅳ型
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VMM-12Ⅰ型
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VMM-12Ⅱ型
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VMM-12Ⅲ型
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VMM-12
Ⅳ型
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鏡筒
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1×光(guāng)學管徑，雙目目鏡，帶有CCD1/2靶面接口
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觀察圖像
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正像
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觀測方法
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輔助對(duì)焦系統
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-
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-
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頭部或照(zhào)明(míng)器FA系統
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頭部或照(zhào)明(míng)器FA系統
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-
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-
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頭部或照(zhào)明(míng)器FA系統
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頭部或照(zhào)明(míng)器FA系統
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微分(fēn)幹涉對(duì)比
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可(kě)選微分(fēn)觀測對(duì)比
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目鏡
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10X(視場(chǎng)直徑：25mm)，可(kě)選十字分(fēn)劃闆，可(kě)選：視場(chǎng)直徑：22mm
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物(wù)鏡(100x選配)
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95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
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60mm 5x,
10x,20x,
50x
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95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
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60mm
5x,
10x,20x,
50x
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95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
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60mm 5x,
10x,20x,
50x
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95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
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60mm
5x,
10x,20x,
50x
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照(zhào)明(míng)裝置
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反射照(zhào)明(míng)
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内置孔徑光(guāng)闌，LED光(guāng)源，無極亮度調節，可(kě)選鹵素照(zhào)明(míng)
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透射照(zhào)明(míng)
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白色LED照(zhào)明(míng)，無極亮度調節
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工作台
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XY測量範圍
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200*100
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200*100
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200*100
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200*100
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300*200
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300*200
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300*200
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300*200
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快(kuài)速釋放裝置
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X軸和(hé)Y軸（标配）
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調零開關
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X軸和(hé)Y軸（标配）
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數顯計器
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顯示軸
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2軸或3軸
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分(fēn)辯率
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0.0005mm（可(kě)選0.00002mm）
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VMM-8-Ⅰ型主圖
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VMM-8-Ⅱ型主圖
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VMM-8-Ⅲ型FA主圖
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VMM-8-Ⅳ型FA主圖
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VMM-12-Ⅰ型主圖-95mm
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VMM-12-Ⅱ型主圖-60mm
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VMM-12-Ⅲ型FA主圖-95mm
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VMM-12-Ⅳ型FA主圖-60mm
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介紹
95MM金相長(cháng)工作距離明(míng)場(chǎng)物(wù)鏡。
特點
● 可(kě)見光(guāng)成像
● 無限遠(yuǎn)光(guāng)學系統，管徑焦距200mm
● 物(wù)鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數
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平場(chǎng)複消色差M PLAN APO L
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數值孔徑N.A.
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工作距離W.D.
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焦距f
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景深D.F.
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分(fēn)辨率R
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視場(chǎng)
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目鏡(WF10/24)
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1/2"CCD攝像頭
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2X
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0.055
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34.6
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100
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91μ
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5μ
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Φ12
|
2.4x3.2
|
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5X
|
0.14
|
45
|
40
|
14μ
|
2μ
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Φ4.8
|
0.96x1.28
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10X
|
0.28
|
34
|
20
|
3.5μ
|
1μ
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Φ2.4
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0.48x0.64
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20X
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0.29
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30.8
|
10
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3.5μ
|
1μ
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Φ1.2
|
0.24x0.32
|
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50X
|
0.42
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20.5
|
4
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1.6μ
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0.7μ
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Φ0.45
|
0.10x0.13
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100X
|
0.55
|
12.5
|
2
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0.9μ
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0.5μ
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Φ0.24
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0.05x0.06
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介紹
60MM金相平場(chǎng)半複消色差物(wù)鏡。
特點
● 可(kě)見光(guāng)成像
● 物(wù)鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數
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名稱
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物(wù)鏡
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目鏡(WF10/25)
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數值孔徑N.A.
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有效工作距離W.D.(mm)
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焦距f′(mm)
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分(fēn)辨率R(μm)
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物(wù)理(lǐ)焦深±Δp(μm)
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物(wù)方視場(chǎng)(mm)
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焦點深度±Δ(μm)
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5X
|
0.15
|
11.6
|
40
|
2.1
|
16.3
|
Φ5
|
38.3
|
|
10X
|
0.3
|
6.3
|
20
|
0.9
|
3.1
|
Φ2.5
|
7.8
|
|
20X
|
0.4
|
10.3
|
10
|
0.69
|
1.8
|
Φ1.25
|
3.5
|
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50X
|
0.8
|
2
|
4
|
0.34
|
0.4
|
Φ0.5
|
0.8
|
|
100X
|
0.80
|
1.96
|
2
|
0.34
|
0.2
|
Φ0.25
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0.6
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介紹
45MM金相平場(chǎng)消色差明(míng)場(chǎng)物(wù)鏡。
特點
● 可(kě)見光(guāng)成像
● 無限遠(yuǎn)光(guāng)學系統，管徑200mm
● 物(wù)鏡螺紋M20.32
技術參數
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名稱
|
物(wù)鏡
|
目鏡(WF10/25)
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數值孔徑N.A.
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有效工作距離W.D.(mm)
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焦距f′(mm)
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分(fēn)辨率R(μm)
|
物(wù)理(lǐ)焦深±Δp(μm)
|
物(wù)方視場(chǎng)(mm)
|
焦點深度±Δ(μm)
|
|
5X
|
0.13
|
11.6
|
40
|
2.1
|
16.3
|
Φ5
|
38.3
|
|
10X
|
0.3
|
6.4
|
20
|
0.9
|
3.5
|
Φ2.5
|
7.8
|
|
20X
|
0.4
|
11.1
|
10
|
0.7
|
1.6
|
Φ1.25
|
3.5
|
|
50X
|
0.55
|
8.2
|
4
|
0.5
|
10.9
|
Φ0.5
|
1.4
|
|
100X
|
0.80
|
2
|
2
|
0.4
|
0.4
|
Φ0.25
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0.7
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微分(fēn)幹涉介紹
微分(fēn)幹涉DIC在正交偏光(guāng)的(de)基礎上，插入DIC棱鏡，即可(kě)進行DIC微分(fēn)幹涉相襯觀察。使用(yòng)DIC技術，可(kě)以使物(wù)鏡表面微小的(de)高(gāo)低差産生明(míng)顯的(de)浮雕效果，極大(dà)的(de)提高(gāo)圖像的(de)對(duì)比度。
5X、10X、20X專爲DIC設計，使得(de)整個(gè)視場(chǎng)的(de)幹涉色一緻，微分(fēn)幹涉效果非常出色，高(gāo)倍物(wù)鏡DIC效果也(yě)較好。
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