UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨抛光(guāng)機主要用(yòng)于材料研究領域
産品簡介:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨抛光(guāng)機主要用(yòng)于材料研究領域,廣泛使用(yòng)于大(dà)專院校、科研院所實驗室的(de)金屬、陶瓷、玻璃、紅外光(guāng)學材料(如硒化(huà)鋅、硫化(huà)鋅、矽、鍺等晶體)、岩樣、礦樣、有機高(gāo)分(fēn)子材料、複合材料等材料樣品的(de)自動研磨抛光(guāng),以及工廠的(de)小規模生産等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨抛光(guāng)機設有兩個(gè)研磨抛光(guāng)工位,可(kě)以分(fēn)别進行研磨、抛光(guāng)操作,既避免了(le)交叉污染,又提高(gāo)了(le)工作效率。本機采用(yòng)機械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓,壓力施加于載物(wù)盤的(de)中心,使整個(gè)載物(wù)盤受力均勻。通(tōng)過手觸控制屏對(duì)設備進行控制,上盤可(kě)以進行順時(shí)針旋轉也(yě)可(kě)以進行逆時(shí)針旋轉,下(xià)盤作順時(shí)針旋轉,通(tōng)過樣品盤的(de)材質不同可(kě)以選擇上盤的(de)旋轉方向。機器工作過程中噪音(yīn)小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機器自動停止,可(kě)以實現無人(rén)看守工作。
産品名稱 |
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨抛光(guāng)機 |
産品型号 |
UNIPOL-1000D |
安裝條件 |
本設備要求在海拔1000m以下(xià),溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下(xià)使用(yòng)。 1、水(shuǐ):設備配有上水(shuǐ)口及下(xià)水(shuǐ)口,需自行連接自來(lái)水(shuǐ)及排水(shuǐ) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:無 4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通(tōng)風裝置:不需要 |
主要特點 |
1、設有兩個(gè)研磨抛光(guāng)工位,可(kě)分(fēn)别進行研磨、抛光(guāng)操作。 2、中心加載壓力,壓力穩定可(kě)靠。 3、性能優良,操作簡單,适用(yòng)範圍廣。 |
技術參數 |
1、電源:220V 50Hz 2、載物(wù)盤:Ø150mm 3、桃型孔:Ø25.4mm 4、磨抛盤:Ø250mm 5、載物(wù)盤(上盤)轉速:10rpm-80rpm(無級調速) 6、磨抛盤(下(xià)盤)轉速:50rpm-400rpm(增量調速,最小增量10) 7、壓力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg) |
産品規格 |
尺寸:780mm×590mm×750mm;重量:100kg |
可(kě)選配件 |
6、精密測厚儀 8、陶瓷研磨盤 9、玻璃研磨盤 |