UNIPOL-1502自動精密研磨抛光(guāng)機是用(yòng)于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、岩樣、礦樣、PCB闆、紅外光(guāng)學材料(如硒化(huà)鋅、硫化(huà)鋅、矽、鍺等晶體)、耐火材料、複合材料等材料的(de)研磨抛光(guāng)制樣,是科學研究、生産實驗理(lǐ)想的(de)磨抛設備之一。
産品詳細介紹:UNIPOL-1502自動精密研磨抛光(guāng)機是用(yòng)于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、岩樣、礦樣、PCB闆、紅外光(guāng)學材料(如硒化(huà)鋅、硫化(huà)鋅、矽、鍺等晶體)、耐火材料、複合材料等材料的(de)研磨抛光(guāng)制樣,是科學研究、生産實驗理(lǐ)想的(de)磨抛設備之一。本機設置了(le)Ø381mm的(de)研磨抛光(guāng)盤和(hé)三個(gè)加工工位,可(kě)用(yòng)于研磨抛光(guāng)≤Ø110mm的(de)圓片或對(duì)角線長(cháng)≤110mm的(de)矩形平面。在研磨過程中兩個(gè)加工工位可(kě)以一定的(de)頻(pín)率左右擺動,同時(shí)推動載物(wù)塊左右擺動,載物(wù)塊在進行自轉的(de)同時(shí)随著(zhe)研磨盤公轉,使樣品做(zuò)無規則運動,使研磨後的(de)樣品表面質量均勻。研磨抛光(guāng)機配備的(de)載物(wù)塊是具有高(gāo)的(de)平面度和(hé)平行度的(de)精密圓柱狀金屬塊,使研磨後的(de)樣品表面也(yě)具有高(gāo)的(de)平面度,并且不會使樣品邊緣倒角,對(duì)邊緣要求高(gāo)的(de)樣品尤其适合。UNIPOL-1502自動精密研磨抛光(guāng)機若配置适當的(de)附件(GPC-100A精密磨抛控制儀),可(kě)批量生産高(gāo)質量的(de)平面磨抛産品。搭配GPC-100A使用(yòng)尤其适用(yòng)于直徑≤110mm的(de)晶圓樣品的(de)研磨與抛光(guāng)。UNIPOL-1502精密研磨抛光(guāng)機可(kě)以用(yòng)研磨盤加磨料的(de)方式研磨樣品,也(yě)可(kě)以選用(yòng)抛光(guāng)盤貼砂紙的(de)方式研磨樣品,砂紙或抛光(guāng)墊采用(yòng)磁力吸附的(de)方式裝卡,裝卸方便。具體選用(yòng)砂紙研磨還(hái)是磨料研磨可(kě)根據被研磨樣品的(de)材質進行選擇。
産品名稱 |
UNIPOL-1502自動精密研磨抛光(guāng)機 |
産品型号 |
UNIPOL-1502 |
安裝條件 |
本設備要求在海拔1000m以下(xià),溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下(xià)使用(yòng)。 1、水(shuǐ):設備配有上水(shuǐ)口及下(xià)水(shuǐ)口,需自行連接自來(lái)水(shuǐ)及排水(shuǐ) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:無 4、工作台:尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通(tōng)風裝置:不需要 |
主要特點 |
1、超平抛光(guāng)盤(平面度爲每25mm×25mm小于0.0025mm)。 2、超精旋轉軸(托盤端跳小于0.012mm)。 3、設有三個(gè)加工工位。 4、主軸旋轉采用(yòng)無級調速控制方式,并設有數顯表實時(shí)顯示轉數。 5、配有定時(shí)器,可(kě)準确控制工作時(shí)間(0-300h之間)。 6、可(kě)選配自動滴料器或循環泵,使磨抛更加方便快(kuài)捷。 |
技術參數 |
1、電源:110V/220V 2、功率:410W 3、磨抛盤轉速:0-125rpm 4、工位:3個(gè) 5、支撐臂擺動次數:0-9次/分(fēn) 6、托盤端跳:0.01mm/332mm 7、磨抛盤:Ø381mm 8、載物(wù)盤:Ø110mm |
産品規格 |
尺寸:720mm×580mm×380mm;重量:90kg |
可(kě)選配件 |
5、精密測厚儀 7、玻璃研磨盤 8、陶瓷修盤環 |