工業顯微鏡 LV150N/LV150NL/LV150NA

新的(de)光(guāng)學系統令 ECLIPSE煥發新風采

ECLIPSE 顯微鏡機身采用(yòng)模塊化(huà)制造，可(kě)滿足多(duō)領域的(de)工業應用(yòng)，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和(hé)精密模具制造等。

ECLIPSE LV 系列經過不斷的(de)發展完善并配備了(le)新的(de)光(guāng)學系統和(hé)功能，可(kě)根據觀察方法和(hé)目的(de) 選擇支架裝置和(hé)照(zhào)明(míng)裝置以滿足多(duō)種觀察需求。

用(yòng)戶可(kě)選擇使用(yòng)電動和(hé)手動操控模式以及反射照(zhào)明(míng)用(yòng)模式和(hé)反射／透射組合照(zhào)明(míng)模式以滿足應用(yòng)需求。

CFI60-2 經過改進的(de)光(guāng)學性能

以高(gāo)數值孔徑和(hé)長(cháng)工作距離設計理(lǐ)念而著稱的(de)尼康 CFI60 光(guāng)學系統

經過進一步改進，具有長(cháng)工作距離、色差校正性能和(hé)更輕的(de)重量。

輕松的(de)操作 與數碼相機集成

現可(kě)使用(yòng)數碼控制裝置來(lái)檢測包括物(wù)鏡信息在内的(de)顯微鏡信息，以及對(duì)顯微鏡進行電動操作，以更高(gāo)效地進行觀察和(hé)圖像拍(pāi)攝

觀察方法

可(kě)支持多(duō)種觀察方法：明(míng)場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光(guāng)、微分(fēn)幹涉、落射熒光(guāng)和(hé)雙光(guāng)束幹涉測量等。