UNIPOL-2001型精密研磨抛光(guāng)機設有三個(gè)加工工位，是可(kě)進行大(dà)尺寸樣品磨抛的(de)落地式磨抛機，用(yòng)于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、岩樣、礦樣、PCB闆、紅外光(guāng)學材料（如硒化(huà)鋅、硫化(huà)鋅、矽、鍺等晶體）、耐火材料、複合材料等材料的(de)研磨抛光(guāng)制樣，是科學研究、生産實驗理(lǐ)想的(de)磨抛設備之一。本機設置了(le)Ø508mm的(de)研磨抛光(guāng)盤和(hé)三個(gè)加工工位，可(kě)用(yòng)于研磨抛光(guāng)≤Ø160mm的(de)圓片或對(duì)角線長(cháng)≤160mm的(de)矩形平面。在研磨過程中三個(gè)加工工位可(kě)以一定的(de)頻(pín)率左右擺動，同時(shí)推動載物(wù)塊左右擺動，載物(wù)塊在進行自轉的(de)同時(shí)随著(zhe)研磨盤公轉，使樣品做(zuò)無規則運動，使研磨後的(de)樣品表面質量均勻。研磨抛光(guāng)機配備的(de)載物(wù)塊是具有高(gāo)的(de)平面度和(hé)平行度的(de)精密圓柱狀金屬塊，使研磨後的(de)樣品表面也(yě)具有高(gāo)的(de)平面度，并且不會使樣品邊緣倒角，對(duì)邊緣要求高(gāo)的(de)樣品尤其适合。若配置适當的(de)附件（GPC系列精密磨抛控制儀），可(kě)批量生産高(gāo)質量的(de)平面磨抛産品，例如直徑≤Ø160mm晶圓樣品的(de)研磨與抛光(guāng)。采用(yòng)研磨盤加磨料的(de)方式研磨樣品，也(yě)可(kě)以選用(yòng)抛光(guāng)盤貼砂紙的(de)方式研磨樣品，砂紙或抛光(guāng)墊采用(yòng)磁力吸附的(de)方式裝卡，裝卸方便。具體選用(yòng)砂紙研磨還(hái)是磨料研磨可(kě)根據被研磨樣品的(de)材質進行選擇。